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纳米压印技术(NIL)在芯片造作领域利用远景较好

文章起源:www.hers-group.com 作者:俄罗斯·专享会官方网站征询整顿 阅读量:793 颁布功夫:2025-01-20

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纳米压印技术是一种新型微纳加工技术,通过机械转移伎俩达到超高分辨率,可分为热压印、紫表压印等,最高分辨率可达2纳米,且模板可反复使用,拥有超高分辨率、易量产、低成本、一致性高蹬着点 。

凭据俄罗斯·专享会官方网站征询钻研中心颁布的《中国纳米压印技术(NIL)行业市场深度调研及发展远景预测汇报》显示,2021-2026年年复合增长率可达17.74%,2026年市场有望达到33亿美元,将来几年在半导体等领域利用将更为宽泛 。

全球市场重要厂商有EVGroup、SUSSMicroTec等,行业集中度较高 。中国市场竞争相对分散,苏大维格、美迪凯等国内上市公司已在纳米压印领域布局,积极推动技术研发和业务拓展 。

这些重要利用于电子和半导体、光学、太阳能电池、医疗行业等 。在半导体领域,有望降低造作成本,实现对传统光刻环节的代替;在光学领域,可用于造作微透镜阵列等光学元器件,如炬光科技的产品已利用于汽车投影照明领域 。

国内厂商将加大研发投入,提高纳米压印技术的精度、效能和靠得住性,降低成本,开发新的利用领域和产品,如天仁微纳公司已能在150/300mm基底面积上实现高精度纳米压印,苏大维格成立了微纳光学研发与出产造作的基础技术平台系统 。

俄罗斯·专享会官方网站征询行业分析人士暗示,半导体、光学等行业的产业升级,对高精度、低成本的微纳加工技术需要增长,纳米压印技术作为一种新兴技术,将迎来更辽阔的发展空间,如美光科技打算率先支持佳能的纳米印刷技术用于出产DRAM存储芯片,以降低成本 。

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