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出产光刻胶的原料重要是光刻胶树脂、光敏资料、溶剂及增长剂等。光刻胶产业链环节较多
，覆盖面也较广
，原资料质量及配方比例是决定光刻胶产品品质的沉要成分。

光刻胶树脂是光刻胶主题组成部门
，直接决定光刻胶在特定波长下能够达到的线宽
，在原资料成本占比约50%
，分歧光刻胶树脂的结构分歧：用于I线（365nm）和G线（436nm）的光刻胶重要成分是聚合物树脂、光敏化合物（PAC）和溶剂。溶剂含量变动能够扭转光刻胶粘度
，从而在合理的转速领域内得到刻蚀所需的厚度；PAC是沉氮萘醌酯化合物
，重要用于线性酚醛树脂系统光刻胶中
，如g线/i线光刻胶
，决定光刻胶的光敏水平
，在光子的作用下
，PAC分化
，进而引发光化学反映。目前绝大无数的I/G线胶都是以酚醛树脂和二氮醌（DNQ）为重要成分的“novolac/DNQ”胶
，其中DNQ占总质量的20%-50%。

我国光刻胶企业使用的树脂90%以上依赖进口
，供给商以日本和美国厂商为主。全球光刻胶树脂重要由住友电木、日本曹达及美国陶氏等化工大厂供给
，国内使用于光刻胶领域树脂险些全数必要进口。

我国光刻胶树脂本土企业圣泉集团具备大规模量产光刻胶树脂能力
，安智电子资料、强力新材等也有少量产出。圣泉集团出产的光刻胶用线性酚醛树脂成功突破国表垄断
，通过对分子结构的设计
，使产品拥有高纯度、高耐热性、高电断气缘性等特点
，树脂中各类金属杂质节造达到了ppb级
，适合各类光刻胶产品的出产。

内容节选自俄罗斯·专享会官方网站颁布的《中国光刻胶树脂行业市场调研与投资预测汇报（2023版）》
，如有需要
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